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DJL-680多功能磁控溅射离子镀设备

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DJL-680多功能磁控溅射离子镀设备

该设备采用磁控溅射,膜层致密、细腻、硬度高、光泽好、柔性好;是镀制金属膜、化合物膜以及各种复合膜的理想设备。

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该设备采用磁控溅射,膜层致密、细腻、硬度高、光泽好、柔性好。使用HiPIMS电源,成膜速度大幅提高。偏压能有效提高膜层与机体的附着力,提高成膜速率和提高膜层品质。是镀制金属膜、化合物膜以及各种复合膜的理想设备。采用分子泵系统有效防止和解决长时间工作引起的扩散泵返油问题,更好的提高镀膜质量,而且节省电能;平面磁控靶带有靶门方便靶材更换和清洗,粑面配有自动挡板防止交叉污染和镀前洗靶;整机操作方便可靠,可全自动化作业生产,并可储存修改多种生产工艺制程。

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